Die Musterübertragung
Lithografie bildet ein Maskenmuster auf eine lichtempfindliche Oberfläche ab. Die Optik verkleinert und fokussiert dieses Muster. Die Waferbühne positioniert das Substrat für weitere Belichtungen. ASML: Lithografieprinzipien.
Ein gemeinsames Präzisionssystem
ZEISS entwickelt unter anderem Lithografieoptiken und Technologien für die Halbleiterfertigung. Optik, Bewegung und Prozessführung müssen zusammenwirken. Die violetten Pfade in den Funktionsrenderings kennzeichnen die Strahlführung schematisch; EUV-Licht selbst ist für das menschliche Auge unsichtbar. ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology.
Unser Bezug: konkrete Prozessdaten
Für unsere kleine Kachel übersetzen wir den RTL-Entwurf mit offenen Werkzeugen in eine platzierte und verdrahtete Schaltung auf Basis des IHP-SG13G2-PDK. Damit werden lokale Leitungen, Timing und Fläche untersuchbar. Die hier gezeigten Lithografiesysteme stehen für eine andere Ebene der Fertigung. Aus unserem SG13G2-Versuch folgt keine Nutzung dieser Anlagen. IHP Open PDK.